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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
RIE-10NR 是一種平行平板反應(yīng)離子蝕刻 （RIE）設(shè)備，用于各向異性加工各種硅薄膜，如 Si、Poly-Si、SiO_和 SiN。
詳情介紹：
概述
RIE-10NR 是一種平行平板反應(yīng)離子蝕刻 （RIE）設(shè)備，用于各向異性加工各種硅薄膜，如 Si、Poly-Si、SiO_和 SiN。 該設(shè)備是一種經(jīng)濟(jì)高效的 RIE 設(shè)備，可通過 PLC 控制存儲(chǔ)自動(dòng)操作和過程參數(shù)。
特點(diǎn)
? 可加工 8 英寸晶圓
雖然這是一個(gè)緊湊的設(shè)計(jì)節(jié)省空間的設(shè)備，它允許加工高達(dá)±8英寸的晶圓。
自動(dòng)駕駛
通過觸摸屏操作實(shí)現(xiàn)自動(dòng)操作 ， 可通過PLC控制進(jìn)行過程管理和數(shù)據(jù)記錄 。
豐富的交付記錄
自發(fā)布以來，該設(shè)備在改進(jìn)的同時(shí)不斷發(fā)展，擁有 300 多臺(tái)記錄。
應(yīng)用示例
? 各種硅薄膜的高精度蝕刻，如 Si、Poly-Si、SiO+ 和 SiN
半導(dǎo)體激光器的制造
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